半導體超純水設備
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半導體行業(yè)超純水
半導體行業(yè)超純水設備使用的是微電腦+觸摸屏控制技術(shù)，搭配高效的自動(dòng)化控制系統，有效的保障了設備的穩定性，而且極大程度的節約了人力成本和維護成本，水資源的利用率得到了有效的提高，設備運行過(guò)程的可靠性高，操作簡(jiǎn)單易懂。這款設備相較于其它同類(lèi)型產(chǎn)品，具有更高的性?xún)r(jià)比，是值得選擇的半導體行業(yè)超純水設備。
制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)
設備特點(diǎn)：
設備可接入國家自來(lái)水標準的水為源水，并增加石英砂過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等四級預處理，另有RO反滲透主機系統和EDI離子交換技術(shù)，有效的延長(cháng)了設備的使用壽命，降低了人工的操作復雜度和維護工作量等。系統水箱處設有液位控制系統、水泵處設有壓力保護裝置并配備在線(xiàn)水質(zhì)監測控制儀器，讓設備的自動(dòng)化得到極大的提高。設備的選材方面，公司可按照客戶(hù)對于水質(zhì)的要求進(jìn)行特殊定制，既能保證用水水質(zhì)達標，同時(shí)降低了所需成本。
適用領(lǐng)域：
1.電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
2.電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
3.顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)、配料用純水
4.黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
5.液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
6.晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
7.集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
8.半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
9.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
10.高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
11.半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
12.超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料
水質(zhì)用水標準：符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內外大規模集成電路水質(zhì)標準
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