隨著(zhù)電子設備在我們的日常生活中越來(lái)越普遍，對于電子設備的需求量就會(huì )越來(lái)越高，而在生產(chǎn)電子設備時(shí)，電子元器件生產(chǎn)對于水質(zhì)的要求是越來(lái)越高，高純水設備是制取超純水的設備之一，那對于實(shí)驗室的用水可以用高純水設備制取嗎?

一，高純水設備制取的水是可以用于實(shí)驗室的用水。

其次，高純水設備制取原理：

實(shí)驗室高純水設備是作為純水的二次除鹽設備，超純水在經(jīng)過(guò)反滲透設備處理后再到高純水設備進(jìn)行處理，宏森環(huán)保的超純水設備可制取電阻率高達10-18.2MΩ.CM。

因實(shí)驗室對于水質(zhì)的要求比較特殊，一般水處理系統包含水預處理系統、反滲透系統、混床系統、紫外消毒等，設備零件由電阻率、電導率在線(xiàn)監側儀表、PLC控制、電動(dòng)球閥、XL-400模塊5塊等組成。

因不同的實(shí)驗室其用水的水質(zhì)要求不一樣：

簡(jiǎn)單的水處理工藝：預處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-用水對象;

深度的水處理工藝：預處理→紫外線(xiàn)殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→拋光混床→-用水對象;

選擇高純水設備的優(yōu)勢在于：

1、設備無(wú)需因樹(shù)脂再生而中途停機;

2、設備的產(chǎn)水水質(zhì)穩定，水質(zhì)要求達標;

3、水質(zhì)的脫鹽率高達99%左右;

4、設備的操作簡(jiǎn)單、日常維護即可，運行成分低;

5、因設備的占地面積小，節省空間又環(huán)保。